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薄膜衬底

本事业部采用提拉法生长高质量的氟化锂,氟化锂晶体的透过率范围在从真空紫外105nm到红外的6.0μm,是真空紫外去透过率最好的材料。这种晶体被广泛的用来制造紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。此外,该晶体也可以被用作X涉嫌探测器晶体。较低的折射率使得该晶体在没有防反射镀膜的情况下直接使用。作为窗口材料,氟化锂晶体是一种优良的消色差和复色差材料,被广泛应用于光学仪器中的紫外、红外透射窗口透镜和棱镜。

主要性能参数

透射范围

0.105 --- 6µm

折射率

1.37327 @2.5 µm; 1.624 @0.121 µm

反射损失

4.4% @4.0 µm

密度

2.63905 g/cm3

熔点

870°C; 848°C

热导率

11.3 W/(m·K) @41°C

比热

1562 J/(kg·K)

热膨胀

37 · 10-6 /°C @0°---100°C

硬度 (Mohs)

102-113 (Indenter load: 600g)

杨氏模量

64.79 GPa

剪切模量

55.14 GPa

体模量

62.03 GPa

断裂模量

10.8 MPa

弹性系数

C11 = 112; C12 = 45.6; C44 = 63.2 GPa

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